<track id="piefi"></track>

<li id="piefi"><ruby id="piefi"></ruby></li>

    <object id="piefi"><strong id="piefi"></strong></object>
      文章詳情
      所在位置: 首頁> 技術文章> 其它>

      PECVD系統應用的說明

      日期:2022-04-06 19:00
      瀏覽次數:68
      摘要:
       PECVD主要是對半導體材料硅的濺射。

      PECVD系統應用:

          1. 廣泛應用于MEMS、先進封裝、功率半導體、LED制造、RF集成電路等領域

          2. 放射方式對稱工藝氣體顯著提高晶圓片內均勻性(WIW)

          3. 多達10路氣體管路,可選on-board液體輸送系統

          4. 復合頻率等離子體能力調節應力

          5. 有源冷卻平臺應用在關鍵,低溫[小于175°C]封裝工藝

          6. 可選敏感的de-gassing襯底材料增加單/多晶圓預加熱腔室

      尊敬的客戶:

        本公司還有快速退火爐、等離子清洗機、磁控濺射鍍膜儀等產品,您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息,至善至美的服務是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品,我們將竭誠為您服務!
       

      豫公網安備 41019702002438號

      欧美黑人肉体狂欢大派对

      <track id="piefi"></track>

      <li id="piefi"><ruby id="piefi"></ruby></li>

        <object id="piefi"><strong id="piefi"></strong></object>