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      產品詳情
      • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

      • 產品型號:
      • 產品廠商:成越科儀
      • 產品文檔:
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      簡單介紹:
      該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
      詳情介紹:

      該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

      電子束蒸發鍍膜儀設備技術參數

      使用條件

      環境溫度

      5℃~40

      電源

      380V

      功率

      20KW

      水壓

      2.5bar

      真空室尺寸

      蒸發室尺寸

      φ500×H500()

      過渡倉庫

      φ280×H300()

      電子槍

      新型電子槍1套,6穴坩堝

      離子源

      考夫曼離子源K08一套

      樣品轉盤

      樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

      系統真空度

      極限真空

      12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

       

      抽氣速率

      從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

       

      系統漏率

      整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

      抽真空系統

      TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

      鍍膜監測

      采用TM160膜厚儀進行監測

      鍍膜厚度的不均勻度

      ≤3%

      豫公網安備 41019702002438號

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