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CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。
設備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規管，進氣系統和控制系統組成。
設計特色
1. 設備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。
2. 真空室采用下置靶設計，樣品臺具有加熱和旋轉但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。
3. 設備真空獲得系統采用兩級真空泵組，前級泵為大抽速機械泵，有效縮從常壓至低真空的時間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統干凈快速。
4. 真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細，真空性能優異。
5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優良，能有效保證鍍膜質量。
技術參數
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磁控濺射頭 |
數量 |
2英寸 x2 |
冷卻方式 |
水冷 |
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蒸發系統 |
蒸發源 |
鎢絲籃 |
*高溫度 |
1500℃ |
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熱電偶 |
S型熱電偶 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300mm X 300mm |
觀察窗口 |
φ100mm |
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腔體材料 |
304不銹鋼 |
開啟方式 |
前開門式 |
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真空系統 |
機械泵 |
旋片泵 |
抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣速率 |
1.1L/s |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
抽氣接口 |
CF150 |
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抽氣速率 |
600L/s |
排氣接口 |
KF40 |
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真空測量 |
電阻規+電離規 |
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極限真空 |
1.3x10-4Pa |
供電電源 |
AC;220V 50/60Hz |
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電源配置 |
直流電源數量 |
1臺 |
輸出功率 |
≤1000W |
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輸出電壓 |
≤600W |
響應時間 |
＜5ms |
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射頻電源數量 |
1臺 |
輸出功率 |
≤1000W |
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功率穩定度 |
≤5W |
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射頻功率 |
13.56MHz |
射頻穩定度 |
±0.005% |
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膜厚監控系統 |
膜厚儀測量分辨率 |
±0.03Hz |
測量精度 |
±0.5% |
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測量上限 |
50000 |
測量速度 |
100~1000ms |
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水冷系統 |
水箱容積 |
9L |
流量 |
10L/min |
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供氣系統 |
流量計類型 |
質量流量計 |
量程 |
200sccm |
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氣體類型 |
Ar氣 |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
1400x750x1300mm |
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整機功率 |
4kw（主機+真空泵） |
整機重量 |
295kg |
樣品臺
樣式一：尺寸150mm，加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃， 旋轉速度1-20r/min
樣式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精準可調，旋轉速度1~20rpm，加熱溫度 0~500℃
