產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 涂布機
- 可編程勻膠機
- PECVD氣相沉積系統
- 二合一鍍膜儀
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 等離子鍍膜儀
- 熱解噴涂
- 電子束,激光鍍膜儀
- 等離子清洗機
- CVD氣相沉積系統
- 多弧離子鍍膜儀
- 金剛石切割機
- 真空管式爐
- 立式管式爐
- 晶體生長爐
- 旋轉管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 快速退火爐
- 石墨烯制備
- 高溫熔煉爐
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 二硫化鉬制備
- 混料機設備
- 真空手套箱
- 粉末壓片機
- 真空熱壓機
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- UV光固機
- 注射泵
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 氣體分析儀
- 提拉涂膜機
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 其他產品

新聞詳情
磁控濺射鍍膜儀的主要功能
日期:2022-04-06 12:31
瀏覽次數:44
摘要:
磁控濺射鍍膜儀的主要功能
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器,于2006年12月30日啟用。
磁控濺射鍍膜儀是一種用于化學、材料科學、冶金工程技術、物理學領域的工藝試驗儀器,于2006年12月30日啟用。
技術指標
1、磁控濺射鍍膜儀主真空室的本底真空優于2×10-8Torr;2、四英寸的基片范圍內薄膜厚度均勻性優于±2%;3、可以濺射磁性和非磁性金屬、進行直流和射頻濺射;4、基片可以加熱(800℃)、冷卻(水冷);5、全自動控制;6、18英寸主濺射室;7、高真空泵抽系統;8、超高真空磁控濺射靶;直流/射頻電源;9、4英寸樣品臺;10、PhaseII-J控制系統。
主要功能
磁控濺射鍍膜儀納米磁性薄膜制備設備,可以制備納米磁性薄膜,能加熱,共五個靶位。
尊敬的客戶: