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          單靶直流磁控濺射鍍膜...
          單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等
          帶過渡艙型雙靶磁控濺...
          本設備為雙靶磁濺射控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
          三英寸三靶磁控濺射鍍...
          三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
        • 小型電動升降樣品臺蒸...
          本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,設備安裝有鎢絲籃蒸發源,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
          桌面型水冷樣品臺蒸發...
          本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,設備安裝有鎢絲籃蒸發源,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
          桌面型不銹鋼腔體蒸發...
          本產品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
          桌面型熱蒸發鍍膜儀帶...
          本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
        • 鋰電池專用卷對卷加熱...
          這種全自動卷對卷加熱涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
          實驗室鋰電池卷對卷加...
          這種全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的。刮刀采用全不銹鋼材質,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均勻性。該設備采用具有真空吸附功能的樣品臺,可以平穩的吸附樣品。同時涂布機具有底部加熱功能,加熱溫度可達120℃,在涂膜過程中實現烤膠功能,從而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
          鋰電池隔膜涂布機
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          CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
          PP腔體八英寸勻膠機
          本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用PP工程材料,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,轉速能達到10000轉/分,有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制,可以預設勻膠曲線,大大簡化了使用過程降低了學習成本,十分適合實驗室選購。
          亞克力八英寸勻膠機
          本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,轉速能達到10000轉/分,有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制,可以預設勻膠曲線,大大簡化了使用過程降低了學習成本,十分適合實驗室選購。
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          鉆石改色爐利用高溫、高壓條件進行改色的鉆石。有兩類成品:①將褐色鉆石改成白色的鉆石,被處理的原石是貧氮的Ⅱ型鉆石,處理后顏色變淺,甚至可改成E、F、G等色級
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          雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。
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          等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵,能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小,節省空間,能夠置于試驗臺上使用,一機多用,性價比突出,非常適合各大高校及研究機構選用。
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